YNS氧化鈰研磨液

本公司開發(fā)的以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點，適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。產(chǎn)品使用方便、懸浮性好，拋光效率高、拋光精度達(dá)到納米級，質(zhì)量穩(wěn)定可靠。

典型產(chǎn)品型號如下，也可根據(jù)用戶需要配制不同濃度和不同粒度的氧化鈰研磨液。

注意事項：

1． 使用前請先搖勻；

2． 使用時，可用少量的水加以稀釋。

包 裝：500 ml/瓶。

儲 存：本品需在0 ℃以上儲存，防止結(jié)冰，在0 ℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

安全信息：詳見本產(chǎn)品的材料安全信息（MSDS）。

應(yīng)用范圍：

1、硅晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化鎵拋光;磷化銦拋光;光學(xué)晶體拋光;藍(lán)寶石襯底拋光;

2、LED襯底拋光;硒化鋅拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光；