YNG納米二氧化硅拋光液（CMP）

我公司納米二氧化硅拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工?？缮a(chǎn)不同粒度（10~150 nm）的產(chǎn)品滿足用戶需求。根據(jù)pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。

產(chǎn)品的特點：

1. 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的（可以生產(chǎn)150 nm）

2. 粒度可控，根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品（10-150 nm）

3. 高純度（Cu²⁺含量小于50 ppb），有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污

4. 高平坦度加工，本品拋光是利用SiO₂的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工

拋光液基本性質(zhì)

拋光液組成

拋光參數(shù)（參考值）

注：本拋光參數(shù)只適用于硅片的拋光。

包 裝：500 ml/瓶，25 Kg/桶，或200 Kg/桶。

儲 存：儲存溫度0~35 ℃，在0 ℃以下因產(chǎn)生不可再分散凝膠而失效，溫度高于35 ℃條件下儲存會促使微生物生長和加速凝膠化，縮短儲藏期。上述條件下堿性拋光液可存放兩年左右，酸性拋光液可存放半年左右。

應(yīng)用范圍：

1、硅晶圓片拋光;鍺片拋光;砷化鎵拋光;磷化銦拋光;光學(xué)晶體拋光;藍(lán)寶石襯底拋光;LED襯底拋光;

2、硒化鋅拋光;光纖連接器拋光;光纖跳線拋光;玻璃拋光;石英拋光,CMP拋光液；

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